Name: Béc nón đặc lưu lượng thấp chống hóa chất JJRP IKEUCHI
Brand: Ikeuchi
SKU: 6ENTU9BD4Y
Availability: InStock
Rating: 5 (1 reviews)

Béc nón đặc lưu lượng thấp chống hóa chất JJRP IKEUCHI

SKU: 6ENTU9BD4Y

Giá: Liên hệ

Số lượng

1. Giới thiệu béc nón đặc lưu lượng thấp JJRP IKEUCHI

Béc nón đặc lưu lượng thấp chống hóa chất JJRP IKEUCHI là dòng chemical resistant low-flow full cone nozzle được thiết kế cho những công đoạn cần phun lượng dung dịch nhỏ nhưng vẫn duy trì phân bố phun nón đặc tương đối đồng đều.

JJRP có hai lựa chọn vật liệu chính là PTFE và PVDF, phù hợp với các ứng dụng phun etchant, dung dịch axit và rửa bằng nước tinh khiết mà IKEUCHI công bố trực tiếp. Béc sử dụng disc whirler được ép cố định bên trong thân, giúp tạo phân bố phun đồng đều ngay cả ở lưu lượng nhỏ.

2. Điểm nổi bật của béc JJRP

Lưu lượng thấp: 0,50–6,00 L/min tại áp suất tiêu chuẩn 0,2 MPa.
Phun nón đặc: Tạo vùng phun full cone với phân bố chất lỏng tương đối đồng đều.
Vật liệu PTFE/PVDF: Phù hợp với các hệ thống phun hóa chất và dung dịch có tính ăn mòn trong điều kiện tương thích vật liệu.
Chuyên cho etching và axit: IKEUCHI công bố trực tiếp ứng dụng phun etchants và acid liquids.
Rửa nước tinh khiết: Phù hợp các công đoạn cleaning with pure water.
Kết cấu một khối: Thân béc tích hợp disc whirler, thiết kế nhỏ gọn.
Nhiều mức lưu lượng: Có các capacity code từ 005 đến 060 để lựa chọn theo nhu cầu thực tế.

3. Thông số kỹ thuật JJRP IKEUCHI

Hạng mục	Thông số
Dòng sản phẩm	JJRP
Hãng sản xuất	IKEUCHI – Nhật Bản
Kiểu phun	Full Cone
Đặc tính	Low Flow Rate
Áp suất tiêu chuẩn	0,2 MPa
Lưu lượng tại 0,2 MPa	0,50 – 6,00 L/min
Góc phun tại 0,2 MPa	Khoảng 60° – 90° tùy model
Đường kính hạt trung bình	Khoảng 260 – 520 μm
Đường thông tự do	0,4 – 1,6 mm
Kết nối	R1/8 hoặc R1/4
Vật liệu	PTFE hoặc PVDF
Cấu tạo	One-piece với press-fitted disc whirler
Ứng dụng chính	Etching, axit, rửa bằng nước tinh khiết

Các model JJRP tiêu biểu

Capacity code	Lưu lượng tại 0,2 MPa	Góc phun tại 0,2 MPa	Free passage
005	0,50 L/min	60°	0,4 mm
007	0,70 L/min	65°	0,6 mm
010	1,00 L/min	65°	0,8 mm
015	1,50 L/min	70°	1,0 mm
020	2,00 L/min	70°	1,2 mm
030	3,00 L/min	80°	1,3 mm
040	4,00 L/min	70°	1,4 mm
050	5,00 L/min	80°	1,6 mm
060	6,00 L/min	90°	1,6 mm

4. Phiên bản PTFE và PVDF

Phiên bản	Đặc điểm chính
JJRP-PTFE	Thân và whirler bằng PTFE; có kết nối R1/8 hoặc R1/4
JJRP-PVDF	Thân và whirler bằng PVDF; có kết nối R1/8 hoặc R1/4
JJRP-PVDF capacity lớn	Các mã từ 010 trở lên không có đầy đủ như phiên bản PTFE

Catalog cho thấy dải model PTFE rộng hơn PVDF. Khi dùng làm béc PTFE phun axit hoặc béc PVDF phun hóa chất, cần kiểm tra thêm loại hóa chất, nồng độ và nhiệt độ thực tế để xác nhận tương thích vật liệu.

5. Ứng dụng JJRP trong các ngành

IKEUCHI công bố trực tiếp JJRP cho phun dung dịch etching, dung dịch axit và rửa bằng nước tinh khiết.

Ngành điện tử: Làm béc phun etching, phun axit hoặc hóa chất trong các công đoạn xử lý bề mặt; rửa linh kiện và bề mặt bằng nước tinh khiết.
Ngành mạ: Làm béc PVDF phun hóa chất hoặc béc PTFE cho các công đoạn phun axit, dung dịch xử lý bề mặt và rửa sau công đoạn mạ.
Ngành dược – y tế: Có thể sử dụng cho rửa bằng nước tinh khiết hoặc phun dung dịch trong các hệ thống phù hợp. Với khu vực yêu cầu sanitary/GMP hoặc tiếp xúc trực tiếp sản phẩm, cần xác nhận riêng yêu cầu vệ sinh của toàn hệ thống.

6. Vì sao chọn béc JJRP IKEUCHI?

Ưu điểm của JJRP IKEUCHI nằm ở sự kết hợp giữa lưu lượng thấp, vùng phun nón đặc và vật liệu PTFE/PVDF. Điều này đặc biệt phù hợp với các công đoạn sử dụng hóa chất mà lượng dung dịch cần được kiểm soát nhưng vẫn phải phủ đều lên vùng xử lý.

Với lưu lượng từ 0,50–6,00 L/min tại 0,2 MPa, nhiều lựa chọn góc phun và khả năng sử dụng cho etching, axit cũng như nước tinh khiết, béc nón đặc lưu lượng thấp chống hóa chất JJRP phù hợp cho ngành điện tử, mạ và các hệ thống làm sạch chuyên dụng.